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参数
DTN洁净厌氧高温气氛炉
DTN430C/630C/450C/650C
最高工作温度 DTN430C/630C：360℃ DTN450C/650C：500℃ 洁净度 100级 氧浓度 20ppm 内容积 91L 216L
洁净度100级、氧浓度低于20ppm的气氛炉，主要应用于固化半导体晶圆等。
特点
- 最高工作温度 360℃和 500℃、洁净度 100 级、氧浓度低于20ppm，主要应用于固化半导体晶圆（光刻胶PI、PBO 固化）、玻璃基板烘烤、高精度退火处理等。
- 采用耐热高性能高效过滤器，箱内洁净度始终保持在 100 级，可在洁净的环境下进行高温烘烤。
- 高气密性的压力箱构造，氧浓度到达时间短，N2 消耗量极低。
- 通过磁密封保持高气密性，并采用水冷机构保护密封部件免受热量影响。
- 可实现快速升温和降温，升降温速率可调节。
- 标准装备有废液回收装置，对气体进行冷却回收。
安全性
拥有门检测开关、温度过升防止器、氧浓度异常、氮气压力检测、氮气流量检测、冷却水流量检测、漏水传感器、过电流漏电漏电保护开关等安装装置。
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发布时间：2021-04-14 16:14:24
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发布时间：2021-02-24 15:48:33
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